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首頁-技術文章-碟濾雙膜法新工藝:在電子半導體含硅廢水處理項目的應用

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碟濾雙膜法新工藝:在電子半導體含硅廢水處理項目的應用

更新時間:2023-04-28       點擊次數:1725
日前,杭州碟濾成功簽訂2400噸/天硅外延材料產業化廢水處理項目,是以運用特種膜技術為核心的含硅廢水處理技術。

我司根據實際水質和客戶對廢水的回用要求,設計采用“CTUF+STRO“工藝,CTUF有效除硅、除氟、除懸浮物,保障預處理系統運行的穩定性。

STRO對RO濃縮液進行高倍濃縮,產水直接回用,以達到循環利用,有效節省了占地與投資運行成本。


項目概況  

工藝優勢    





1、預處理少,極大縮短了工藝,減少占地面積;

2、CTUF做預處理,高精度(膜孔徑5nm/20nm),有效去除硅、氟和懸浮物等,產水水質更好(濁度≤0.2NTU),保持整個系統運行的穩定性;耐高溫( ≤70℃),可熱堿清洗,污染恢復性好,延長使用壽命(5-10年),減少運行成本;

3、STRO進行高倍濃縮,系統回收率可達95%以上,產水達到工業循環冷卻水補充水標準,可直接回用,節能減排;鹽濃縮倍數高,節省后續蒸發的投資成本。

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其它案例

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